四甲基氢氧化铵（TMAH）是一种强碱性化合物，常用于半导体制造工业中的光刻和清洗工艺。它在水中具有良好的溶解性，可形成一种无色透明的碱性溶液。

TMAH溶液的pH值通常在12-14之间，具有很强的腐蚀性和刺激性。因此，在使用TMAH溶液时，必须注意安全操作，避免皮肤接触和吸入气体。

TMAH溶液的应用非常广泛，特别是在微电子制造工艺中。它可以作为光刻剂，用于制作细微的结构和芯片的电路图案。此外，TMAH溶液还可以用于清洗半导体器件和其他微电子元件。

总的来说，TMAH溶液是一种重要的化学品，在半导体工业中发挥着重要的作用。虽然它具有很强的腐蚀性和刺激性，但只要注意安全操作，可以安全地使用。